youtube外国人评论中国euv光刻机（油管外国人评论中国）

独立研发光刻机对中国意味着什么?

1、光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产权的原创性技术。

2、为了实现芯片自研的发展，首先要具备一流的光刻机，光刻机是生产芯片的关键设备，因此成立光刻机公司对于提高中国芯片制造能力和实现芯片自给自足具有重要意义。

3、如今中国在光刻机这一领域依旧是很大的短板，这对我们研究芯片，半导体都有着很大的影响，因此如果芯片领域被西方国家制裁，那么中国的科技领域必将受到打击。

美国拦得住?国产芯加速追赶,德媒:中国10年内光刻机自给自足

我国正以“中国速度”追赶 面对美国越来越过分的干涉，阿斯麦发言人称，当前的政治和国际形势瞬息万变，荷兰政府理解中国处境，当前正在争取办理EUV光刻机的对华出口许可证。

光刻机目前美国处于垄断，造价和售价都是很贵的，每年量产不超过30台，国内目前只能购买国外淘汰掉的光刻机，绝大多数来源于日本。

美国芯片巨头对海外工厂的依赖与日俱增，相比之下，中国芯片国产化的脚步则不断加速。

中国最大的芯片代工厂中芯国际今年初与ASML签署了合作协议，并获得了大量DUV光刻机供应，其工艺技术和生产能力将达到新的水平，其他国内企业也是如此。

中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。

不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm-14nm之间。

euv光刻机的关键是什么?

1、SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源，这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。

2、EUV光刻机主要由三个部分组成：EUV光源，光刻镜头和控制系统。这三个部分都是EUV技术成功实现的关键。1 EUV光源 EUV光源是EUV技术的核心之一，它发射的波长为15纳米的光束。

3、euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术。

荷兰解除禁令,向中国出口光刻机,他们是怎么想的呢?

1、荷兰最终解禁，卖给中国的光刻机，但这个荷兰先进的光刻机并不代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的救星，一定是中国自己。特朗普离开白宫后，外国强加给中国的所有技术限制似乎都失败了。

2、最近，荷兰芯片设备制造商ASML宣布向中国出售光刻机，这是由于中国的芯片需求日益增加，同时美国政府限制其公司向华为供应先进技术而导致在全球市场上受到限制。

3、其实荷兰出口的DUV光刻机设备其实并不是荷兰最新的EUV光刻机设备，该设备依然受到美半导体出口禁令的限制，第二个就是DUV光刻机方面，中国已经完全有能力自行制造出来，在这块的需求其实并不是很大。

4、严格的出口限制：由于荷兰光刻机的先进性和战略重要性，其出口受到严格的限制。ASML需要取得出口许可，才能向其他国家和地区销售其产品。尽管荷兰光刻机在全球范围内享有盛誉，但中国在光刻机领域仍面临技术瓶颈。

5、有。目前荷兰终于解除禁令，卖给中国光刻机了。所以中国有荷兰光刻机。但这个荷兰先进光刻机并不能代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的拯救者还得是中国自己。原本外国加在中国身上的科技限制仿佛全都失效了一样。

6、时间来到11月7日上午，中国进口博览会上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度 ， 对全球客户均一视同仁 ， 在法律法规框架下，都将全力支持。

ASML火灾后续:EUV光刻机受影响

1、根据ASML的消息，虽然评估是否影响今年的光刻机交货还有点早，但这次事件影响的主要是EUV光刻机生产，DUV光刻机不受影响。

2、虽然火灾并未对设施本身造成太大损害，但它影响了生产极紫外 (EUV) 扫描仪组件的部分生产区域。

3、年，ASML成功推出了第一台EUV光刻机NXE：3100，为EUV光刻技术的发展打下了坚实的基础。目前，市场上主流的EUV光刻机是ASML的NXE：3400C和NXE：3400D。

中国突破光刻机意味着什么?

独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展。

光刻机实现国产最大的意义就是解决了芯片问题。中芯国际97%的芯片是28nm或更落后的制程贡献的，只要有28nm的光刻机，中芯国际可以用国产光刻机搞定97%的芯片，这就是最大的意义。

一旦技术成熟，意味着22nm光刻机将在中国问世，这将推动国产芯片的进一步发展，同时也给其他平版印刷厂家带来了信心，这将有助于推动更多的厂家共同打造国产光刻机，提高中国在国际市场之上的竞争力。

这意味着中国在半导体产业中所具备的实力进一步得到了增强，也为今后的科技发展奠定了更为坚实的基础。作为目前全球光刻技术的主要开发者，中国的光刻机发展一直备受瞩目。

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。

在现如今的智能化的时期，芯片是一切高 科技 公司而言都是最关键的存活定心针，而如今，如果没有高档芯片作为支撑点，也就代表着将来在尖端 科技 领域不太可能获得多少成绩。